PLANCKLAB 마스크리스 노광장비
마스크리스 리소그래피(Maskless Lithography)를 위한 PLANCKLAB LITHO MASKLESS. 스탠다드 사이언스는 PLANCKLAB(PLANCK LAB, 플랑크랩)의 한국 독점 대리점으로 장비 구성과 견적을 상담해 드립니다.
반도체 소자와 미세 패턴 연구에 필요한 UV 노광, 디지털 패턴 생성, 카메라 정렬 기능을 확인하세요. 연구 목적과 공정 조건에 맞는 마스크리스 포토리소그래피 장비를 검토하실 수 있습니다.
Standard Science is the exclusive PLANCKLAB distributor in Korea. Explore LITHO MASKLESS, a microscope-based maskless photolithography system with a DMD pattern generator and camera-assisted alignment for research and surface micropatterning.
마스크리스 포토리소그래피 · Maskless Photolithography
DMD(Digital Micromirror Device)가 디지털 포토마스크 역할을 하여 패턴을 빛으로 투사합니다. 물리적인 포토마스크를 새로 제작하지 않고 이미지 파일을 바꿔 포토레지스트 노광 패턴을 변경할 수 있습니다.
DMD 패턴 제너레이터
Digital Pattern Generator. PNG, BMP, JPG 이미지 기반 패턴을 사용합니다. 0.65인치 DMD와 1920 × 1080 해상도를 지원합니다.
UV 노광 · UV Exposure
대물렌즈에 따라 패턴 영역과 해상도가 달라집니다. 원하는 패턴 크기와 노광 조건에 맞는 구성을 확인하세요.
패턴 정렬 · Alignment
카메라 오버레이 정렬을 위한 Easyalign™과 노광 균일도 보정을 위한 AIUniBeam™ 기능을 제공합니다.
응용 분야 · Applications
반도체 소자·마이크로일렉트로닉스의 포토리소그래피 연구, 마이크로플루이딕스와 바이오 분야의 표면 미세 패터닝에 활용할 수 있습니다. 기판과 포토레지스트, 목표 선폭 및 노광 면적을 알려주시면 적용 가능한 광학 구성과 공정 조건을 상담해 드립니다.
Applications include semiconductor device research, microelectronics, microfluidics and biotechnology. Suitability depends on the substrate, photoresist and process requirements; please share your target feature size and exposure area for a configuration review.
사양 및 카탈로그 · Specifications & Catalog
제품 페이지에서 UV LED 파장, 대물렌즈별 패턴 영역·해상도, 카메라, 전원 및 크기를 확인하실 수 있습니다.
노광장비 선택 가이드 · FAQ
마스크 얼라이너와 어떤 차이가 있나요? · Mask Aligner vs. Maskless Lithography
일반적인 마스크 얼라이너는 물리적인 포토마스크와 기판을 정렬해 노광합니다. LITHO MASKLESS는 DMD로 디지털 패턴을 투사하고 Easyalign™ 카메라 오버레이로 패턴 위치를 맞추는 방식입니다. 마스크리스 얼라이너(Maskless Aligner)를 검토하신다면 요구 정렬 정밀도와 노광 면적을 함께 알려 주세요. A mask aligner uses a physical photomask; this maskless system projects a digital pattern and supports camera-assisted alignment. Compatibility with an existing alignment process needs to be assessed.
패턴 제너레이터는 어떻게 작동하나요? · DMD Pattern Generator
0.65인치 DMD의 1920 × 1080 픽셀로 PNG, BMP, JPG 이미지 패턴을 구현합니다. 대물렌즈에 따라 기판에 투사되는 패턴 면적과 픽셀 크기가 달라집니다. The DMD generates optical exposure patterns from image files. Projected field size and pixel scale depend on the objective lens.
반도체 소자 노광장비를 상담하려면 무엇이 필요한가요?
기판 재질·크기, 포토레지스트 종류, 목표 선폭, 한 번에 노광할 면적, 정렬 방식과 보유 현미경 정보를 보내 주세요. 실제 공정에 맞는 구성을 확인한 뒤 사양과 견적을 안내해 드립니다. For semiconductor photolithography enquiries, include your substrate, photoresist, target feature size, exposure area and alignment requirements.
PLANCKLAB 제품의 한국 독점 대리점은 어디인가요?
스탠다드 사이언스는 PLANCKLAB의 한국 독점 대리점입니다. LITHO MASKLESS 제품 상담과 견적 문의를 받고 있습니다.
견적 문의 시 어떤 정보를 보내면 되나요?
원하시는 패턴 크기, 사용 재료, 노광 파장, 보유 현미경과 대물렌즈 정보를 함께 알려주시면 구성 확인에 도움이 됩니다.
상담 및 견적 문의 · Contact
연구 목적과 필요한 구성을 남겨 주세요.
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standard@sdse.co.kr · +82-31-789-3930
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